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Nanoscribe双光子三维激光直写系统
设备名称:
Nanoscribe
双光子三维激光直写系统
设备功能:
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无掩模光刻技术,用于快速,超高精度的微纳加工,可以轻松
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微纳光学制作
设备负责人:
郭洪吉
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